廠商介紹

本公司致力於先進的PECVD 鍍膜製程的研發與生產，特別是金屬材料基材上的應用，目前本公司可以提供鍍膜類別有類鑽膜(DLC)、純矽膜(Pure Si)、碳化矽(SiC)、氮化矽(SiN)，厚度自1.0μm~50μm 均可。 本公司同時也可以在管件或類管件的內表面完成前述的各種膜層/膜厚，對於石油工業、半導體設備部件，一般傳統高附加價值的應用等提升大有裨益，類鑽膜(DLC)特別在耐磨性、膜的散熱性、降低摩擦力、耐腐蝕性等應用上更顯其優異性。